Az Intel közleménye szerint ők lettek az első cég, amely szolgálatba állította a holland ASML új High NA EUV litográfiás chipgyártó eszközeit.

Az Intel elsőként vásárolt a 350 millió eurós gépből, amely új, kisebb, gyorsabb chipeket hoz majd, de pénzügyi és mérnöki kockázatokból sincs hiány. Az Intel szerint belementek az árazásba, mert elkötelezettek, és bíznak a költséghatékonyságában.

Az ASML domináns szereplő ezen a piacon, és éppen most szállította meg a második High NA EUV gépét, amelyet egy másik ügyfél kapott – feltehetően a TSMC vagy a Samsung. Ezek a gépek akár kétharmaddal is csökkenthetik a méreteket, márpedig a chiptervezésnél és gyártásnál a kisebb gyorsabbat és energiahatékonyabbat jelent. Szakemberek szerint mérlegelni kell ezt az előnyt a magasabb költséggel szemben, és azzal szemben is, hogy a régebbi technológia megbízhatóbb lehet, miközben bőven elég.

Az Intel igyekezete, hogy első legyen, nem véletlen: az EUV technológia fejlesztésében ők is segédkeztek, de az első ASML EUV-s terméket csak a TSMC után használták, ami Pat Gelsinger szerint nagy hiba volt (akkor a multi-patterningre szavaztak, több lépcsővel és alacsonyabb felbontású litográfiás gépekkel). Állításuk szerint ekkor kerültek bajba, mert bár a régebbi DUV eszközök olcsóbbak voltak, a folyamat túl időigényessé vált és sok hibát okozott, ami befékezte az Intelt.

Most, hogy átálltak az első-generációs EUV-ra a legfontosabb területeken, a High NA EUV-ra átállás már simább lesz, ígérik. Az új gép ezért még idén szolgálatba áll az oregoni kampuszon.

Az Intel az emeletes busz méretű gépet a 2025-ös, 14A generációs chipekhez használja majd, a próbagyártás 2026-ban, a sorozatgyártás 2027-ben indulhat. A második ügyfélhez képest azonban nagy előnyben vannak, mert egy ilyen gép szállítása és telepítése fél évet vesz igénybe.